CP-8000+离子磨坊横截面抛光剂

新的用于SEM样品制备的CP-8000+离子磨坊横截面抛光剂使用氩离子束轻轻从样品表面上清除材料 - 一次是原子。由此产生的原子级抛光剂根本不能更好。在机械抛光更硬材料或冻结或冻结生物学和其他软材料的裂缝的最后一步之后,使用了一个离子磨坊横截面抛光剂。

Typical applications include critical cross section analysis of semiconductor and electronic components such as Via’s, Solder Joints, layer bonding and de-lamination inspection and other situations where traditional mechanical grinding and polishing tends to deform or smear the softer layers in hard -to-soft interfaces.

横截面或平面离子铣削也可以与粉末一起使用,以执行精致的切片,以查看药物和其他材料科学应用中粉末的内部结构。

扁平铣削用于对比度和晶粒结构增强抛光样品,例如冶金载架,用于EBSD分析。

与市场上传统产品相比,CP-8000易于使用,而且价格便宜得多。欧宝娱乐app下载内部数字显微镜用于调整样品和掩盖位置以及光束对齐。7英寸LCD触摸屏控制面板允许为不同类型的样品准备存储多个“食谱”。它还使操作简单明了。维护CP-8000+横截面抛光剂很简单,用户便利。

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硬件

CP-8000横截面抛光剂的规格:

  1. 氩离子磨 - 500μm光束直径
  2. 离子束能量:2kV至8kV
  3. 铣削速度500μm/hr(8kV时的Si晶片)
  4. 最大样本尺寸:20(w)x 9(d)x 10(h)mm
  5. 平面或扁平铣削(倾斜范围55°至80°)
  6. 阶段秋千从0°到35°调节
  7. 光束开/关循环以进行热敏感样品
  8. 触摸面板控制和显示
  9. 数字显微镜在铣削期间查看样品(8倍,16倍,32X)
  10. 通过数字显微镜进行横梁和掩模对齐
  11. 涡轮分子真空泵包括
  12. 包含粗糙真空泵
  13. 通过质量流控制控制的氩气
  14. 620mm(w)x 370mm(d)x 280mm(h)
布鲁克Xflash Eds

离子抛光样品的示例图像

5,000倍和30,000x(BSE)的纳米级涂层粉:

纳米颗粒离子磨截面
纳米颗粒离子铣削横截面

2,000x和5,000x(SE)的多层材料:

离子铣削多层横截面
离子铣削多层横截面
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